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    強場激光物理國家重點實驗室前身是中國科學院強光光學重點實驗室，以中國科學院上海光學精密機械研究所為依托單位。實驗室主要從事激光物理，特別是強場激光物理及相關新前沿新方向的開拓研究。

該極紫外光刻光源關鍵技術研發課題依托強場激光物理國家重點實驗室開展，進行激光等離子體型的極紫外（EUV，extreme ultraviolet）光刻光源關鍵技術研究。該技術的預研得到了國家科技重大專項以及上海市的重要支持。

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研究課題：極紫外光刻光源研發

    新一代極紫外（EUV，extreme ultraviolet）光刻技術是半導體制造實現7納米、5納米、3納米及以下節點的關鍵技術。EUV光刻基于13.5nm波長的極紫外光源，其基本原理是利用高功率激光與錫液滴靶相互作用產生EUV光。EUV光刻光源是EUV光刻機的核心部件，該技術的預研得到了國家科技重大專項以及上海市的重大支持。課題研究目標以建立激光等離子發光的EUV(LPP-EUV)光刻光源綜合研究平臺，突破直徑20~30μm穩定錫液滴發生器，高功率（萬瓦級）短脈沖（10-30ns）主泵浦激光器和高功率皮秒預泵浦激光器，以及污染控制、EUV光收集等關鍵技術，為EUV光刻光源產品研發奠定基礎。